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マスクアライナ


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写真のマスクアライナ(独SussMicroTech製)によってマイクロリソグラフィ加工を行うことが出来ます。波長400 nmの紫外線を用いて、描画したいマイクロパターンが試料に転写されます。研究用途という性格上、試料の形状が多様なため、試料ホルダの形状、マスクホルダ形状等が特別に設計されています。装置の運用、点検、整備等は、製造元との連絡も含め学生によって行われ、研究上新たに必要となったプロセスに適応するため日々工夫改良がなされています。
また、この装置はクリーンルームの共用スペースに設置されており、他の研究室からの利用要請にも対応しています。そのため、装置運用には責任が伴いますが、その自覚をもって点検整備に取り組むことにより研究室間の信頼と協力関係を築くことにもつながっています。利用記録ノートや作業現場での日常会話を介し、装置の状態に関する最新の情報が研究室の壁を越えて共有され、常に最良の状態で使用できるようになっています。

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